電鍍處理過程中所用的設備（bèi）主要有各類固定槽、滾鍍槽、掛（guà）具、吊籃等（děng）。鍍後處理是對零件進行拋光、出光、鈍化、著色、幹燥、封閉、去（qù）氫等工作，龍（lóng）門式（shì）掛鍍生產線，根（gēn）據需要選用其中一（yī）種或數種工序（xù）使零件符合質量要求。鍍（dù）後處理常用（yòng）設備主要有磨、拋光機，各類固定槽。全自動環形垂直升（shēng）降（jiàng）電（diàn）鍍流水線
工藝要求
1. 鍍層與基（jī）體金屬，鍍（dù）層（céng）與（yǔ）鍍層之間，應有良好的結合力。
2. 鍍（dù）層應結晶細致，掛鍍生產（chǎn）線研發，平整，厚度均勻。
3. 鍍層應具有規定（dìng）的厚度和盡可能少的孔隙。
4. 鍍層應具有規定的各（gè）項指標，如（rú）光亮度，硬度，導電性等。
5. 環境溫度（dù）為-10℃～60℃;
6. 輸入電壓為220V±22V或380V±38V;
7. 水處理設備（bèi）最.大工作噪聲應不大於80dB(A)。
8. 相對濕度(RH)應不大於95%;
9. 原水COD含量為100mg/L～150000mg/L。
10. 電鍍時間及電鍍過程的溫度，決定鍍層厚度的大小。
電鍍的概念
就是利用電解原理在某些（xiē）金屬表麵上鍍上一薄層其它（tā）金屬或合（hé）金的過程。電鍍（dù）時，鍍（dù）層金屬做陽極，被氧化成陽離子進（jìn）入電鍍液；待鍍的金屬製品做陰（yīn）極，鍍層金屬的陽離子在金屬表麵被還原形成鍍層。為排除其它陽離子的幹擾，且使鍍層均勻、牢固，掛鍍生產線公司，需用含鍍層金屬陽離子的溶液做（zuò）電鍍液，以保持鍍層金屬陽離子的濃度不變。電鍍的目的是在基（jī）材上鍍上金屬鍍層，改變基材（cái）表麵（miàn）性質或尺寸.電鍍能增強金屬的抗腐（fǔ）蝕性(鍍層金屬多采用耐腐蝕的金屬)、增加硬度、防止（zhǐ）磨耗、提高導電性、潤（rùn）滑性（xìng）、耐熱性、和表麵美觀。
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