電鍍處理過程中所用的設備主要有各類固定槽、滾鍍槽、掛（guà）具、吊籃等。鍍後處理（lǐ）是（shì）對零件進行（háng）拋光、出光、鈍化（huà）、著色、幹燥、封閉、去氫等（děng）工作，龍門（mén）式掛鍍生產線，根據需要選用其中一種或數種（zhǒng）工序使零件符合質量要求。鍍後處理常用設（shè）備（bèi）主要有（yǒu）磨、拋（pāo）光機，各類固定槽（cáo）。全自動環形垂直升降電鍍流（liú）水線
工藝要求（qiú）
1. 鍍層與基體金屬，鍍層與鍍層之間，應有良好（hǎo）的結合力。
2. 鍍層應結晶細致，掛鍍生產線研發，平整，厚度均勻。
3. 鍍層應具有規定的厚度和（hé）盡可能少的孔隙。
4. 鍍層應具有規定的各項（xiàng）指標，如光亮度，硬度（dù），導電性（xìng）等。
5. 環境溫（wēn）度（dù）為-10℃～60℃;
6. 輸入（rù）電（diàn）壓為220V±22V或（huò）380V±38V;
7. 水處理設備最.大工作噪聲應不大於80dB(A)。
8. 相對濕度(RH)應不大於95%;
9. 原水COD含量為100mg/L～150000mg/L。
10. 電鍍（dù）時間及電鍍過程的溫度，決定鍍層厚度的大小。
電鍍的概念（niàn）
就是利用電解原理在某些金屬表麵上鍍上一（yī）薄層其它金屬或合金的過程。電鍍時，鍍層金屬做陽（yáng）極，被氧化成陽離子（zǐ）進入電鍍液；待鍍的金屬製品做陰極，鍍（dù）層金屬（shǔ）的（de）陽離子在（zài）金屬表麵（miàn）被還原形成鍍（dù）層。為排（pái）除其它陽離子（zǐ）的幹擾，且使鍍層均勻、牢固，掛鍍生產（chǎn）線公司，需用含鍍層金屬陽離子（zǐ）的溶液做電鍍（dù）液，以保持鍍層金屬陽離子的濃度不變。電鍍的目的是在基材上（shàng）鍍上金屬鍍層，改變基材表（biǎo）麵性質或尺寸.電鍍（dù）能增強金屬的抗腐蝕性(鍍層金屬多采用耐腐蝕的金屬)、增加硬度、防止磨耗、提高導電性、潤滑性、耐熱性、和表麵美觀。
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